成人首发,国产 av 仑乱内谢,久久精品日产第一区二区三区高清版,国内精品伊人久久久久网站

咨詢(xún)熱線：15890628086 / 

歡迎來(lái)到河南萬(wàn)達(dá)環(huán)保工程有限公司官網(wǎng)！
18年行業(yè)經(jīng)驗(yàn)的生產(chǎn)廠家 專(zhuān)注高品質(zhì)水處理系統(tǒng)解決方案

免費(fèi)檢測(cè)原水水質(zhì)

免費(fèi)提供技術(shù)方案

免費(fèi)提供方案報(bào)價(jià)

萬(wàn)達(dá)環(huán)保做高品質(zhì)凈水產(chǎn)品和有態(tài)度的傳播者

熱搜關(guān)鍵詞： 反滲透設(shè)備 桶裝水設(shè)備 純化水設(shè)備 礦泉水設(shè)備 凈化車(chē)間

半導(dǎo)體哪些場(chǎng)景需要使用超純水
來(lái)源： | 發(fā)布日期：2025-01-11
哪些場(chǎng)景需要使用超純水，萬(wàn)達(dá)環(huán)保多年從事 超純水設(shè)備的研發(fā)銷(xiāo)售，可以根據(jù)客戶需求量身定制。
臺(tái)積電在芯片制造工藝中廣泛使用超純水，超純水是半導(dǎo)體制造過(guò)程中不可或缺的關(guān)鍵資源。它的使用對(duì)制造 工藝的各個(gè)環(huán)節(jié)至關(guān)重要，尤其在確保晶圓的潔凈度和工藝的精確性方面。
  • 晶圓清洗：晶圓清洗是超純水使用量最大的環(huán)節(jié)之一。每一塊晶圓在多個(gè)制造步驟中都需要進(jìn)行清洗，以去除 表面上的顆粒物、化學(xué)殘留物和其他污染物。這些清洗步驟包括初始清洗、工藝中間清洗和最終清洗等，確保 晶圓在各個(gè)工藝環(huán)節(jié)之間保持潔凈。
  • 蝕刻后清洗：在蝕刻過(guò)程中，化學(xué)物質(zhì)會(huì)選擇性地去除晶圓上的特定材料，之后的清洗步驟用超純水沖洗蝕刻 殘留物，以防止任何殘余物質(zhì)影響下一步工藝。
  • 光刻膠去除：光刻工藝中，光刻膠用于掩膜和圖案轉(zhuǎn)移。在曝光和顯影之后，需要去除光刻膠，通常采用化學(xué) 劑加超純水清洗，以確保表面沒(méi)有任何殘留。
  • 化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）后的清洗：CMP 工藝用于平整晶圓表面，使其達(dá)到納米級(jí)的平整度。拋光后，超純水用 于沖洗拋光液和拋光產(chǎn)生的殘留物，確保表面不受污染。

  • 冷卻和稀釋?zhuān)?/span>在某些化學(xué)工藝中，超純水用于冷卻反應(yīng)器或稀釋高濃度的化學(xué)溶液，防止工藝設(shè)備因高溫或高 濃度化學(xué)品而受損

  • 半導(dǎo)體越先進(jìn)，水消耗強(qiáng)度越大
    隨著半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步，半導(dǎo)體上的晶體管和其他微小結(jié)構(gòu)變得更加精密。這需要使用更多的超純水來(lái)進(jìn)行清 洗、刻蝕、沉積等工藝步驟。相應(yīng)的，單位半導(dǎo)體產(chǎn)品的耗水量（即產(chǎn)品耗水強(qiáng)度）也顯著增加。根據(jù)標(biāo)普全球的測(cè)算， 自從臺(tái)積電的半導(dǎo)體制程在 2015 年達(dá)到 16nm 以來(lái)，每片晶圓的耗水量已經(jīng)增加了 35%。


最新資訊

反滲透純水設(shè)備|反滲透純水處理設(shè)備|反滲透設(shè)備廠家微信二維碼